期刊名称: 集成电路应用
创办日期: 1984年
主管部门: 中国电子信息产业集团有限公司
主办单位: 上海贝岭股份有限公司
协办单位: 上海市集成电路行业协会 SICA
刊期: 月刊
投稿 Email: ICAPP@belling.com.cn
国内统一出版号(CN): CN 31-1325/TN
国际标准出版号(ISSN):ISSN 1674-2583
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· 数字与模拟:本栏目聚焦数字与模拟集成电路设计的前沿理论、关键技术与工程实现。包括但不限于:CPU、GPU、AI加速器、NPU、RISC-V等专用/通用处理器设计,异构计算芯片设计,自动布局布线,可制造性设计,信号完整性,电源完整性分析与优化,以及各类模拟集成电路设计实例。
· 工艺与制造:本栏目聚焦从晶圆材料、前道制程到后道整合的完整制造链,深入探讨包括但不限于:先进光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入、化学机械抛光、计量检测等核心工艺模块的突破与优化;关注FD-SOI、FinFET、GAA、CHIPLET等前沿器件结构的大规模制造技术,追踪集成电路制造与MEMS、传感器、功率器件等特色工艺的融合发展。
· EDA与IP:本栏目追踪全球EDA技术的最新进展,包括但不限于:人工智能驱动的设计(AI for EDA)、云原生EDA、异构集成与先进封装设计、数字孪生、处理器IP(CPU/GPU/NPU)、高速接口IP、模拟及混合信号IP等。
· 方案与应用:本栏目聚焦于以芯片为核心完成的终端应用方案、系统设计与工程实现,包括但不限于CPU、MCU、MPU、SoC、ASIC、FPGA、模拟芯片或专用传感器等的应用方案。
· 管理与创新:本栏目围绕集成电路上下游产业开展管理探索与创新,包括但不限于集成电路行业的人力资源管理、集成电路相关的技术项目管理、集成电路相关的科技管理等。